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晶圓研磨過(guò)程中發(fā)生破損問(wèn)題的分析與解決方法
發(fā)布時(shí)間:2021-08-26 點(diǎn)擊數:8509

晶圓研磨

“晶圓研磨”又名“晶圓減薄”,主要就是通過(guò)背面打磨將晶圓厚度控制在一定范圍內。主要目的是為了滿(mǎn)足后續封裝工藝的要求以及芯片的物理強度、散熱性和尺寸要求等條件。



晶圓研磨的兩個(gè)階段


第一階段:粗磨

此階段使用的金剛石砂輪磨粒較粗,每轉進(jìn)給量大,單顆磨粒的切深大于臨界切削深度。是典型的脆性域磨削。

采用相對較大的進(jìn)給速度,主要為提高加工效率,這個(gè)階段占總減薄量的94%左右。不過(guò)在這個(gè)過(guò)程會(huì )引起較大的晶格損傷與邊緣崩邊。


第二階段:細磨

此階段使用的金剛石砂輪磨粒較細,每轉進(jìn)給量小,一部分部分磨粒的切深度小于臨界切削深度。屬于延性域切削。另一部分的切深大于臨界切削深度,屬于脆性域磨削。

采用較低的進(jìn)給速度,主要用于消除前階段粗磨產(chǎn)生的損傷,崩邊等現象,占總磨削量的6%。


晶圓研磨質(zhì)量要求

  • 晶圓厚度一致性要求

  • 晶圓表面損傷層厚度(SSD)要求

  • 晶圓表面粗糙度要求

  • 晶圓表面厚度偏差TTV值要求

  • 晶圓厚度精度及超薄化能力要求

  • 晶圓完整性


晶圓的完整性主要表現在晶圓無(wú)破損上

在晶圓研磨過(guò)程中,會(huì )有許多造成晶圓破碎的因素存在,如何減小破損產(chǎn)生的機率,需要從現象出發(fā)去尋找原因。



晶圓破碎的幾種形式

1、沿磨痕方向碎裂。

“磨痕”指的就是晶圓片背面的磨痕。這種類(lèi)型的破損發(fā)生在這個(gè)磨痕上。


2、沿晶圓紋路碎裂。

裂紋沿晶體方向呈線(xiàn)性發(fā)生。少數情況下,斷裂不沿晶體取向發(fā)生,但這種類(lèi)型的斷裂通常以線(xiàn)性裂紋為特征。


3、不規則破損。

指如圖所示的與晶體取向和鋸痕無(wú)關(guān)的裂紋,或晶圓片分成幾片的情況。


沿磨痕方向碎裂

沿磨痕斷裂主要是由于砂輪排屑槽堵塞等磨削缺陷造成的。當砂輪與脫落的磨料顆粒磨削時(shí),會(huì )導致晶圓片的高應變而導致斷裂。在最近的趨勢中,當晶圓片有很厚的氧化膜時(shí),沿磨痕的斷裂經(jīng)常發(fā)生。

這可能是由于晶片與z1軸砂輪不匹配(用于粗磨削),即z1軸砂輪磨削能力不足,因此更換磨削能力更強的砂輪是防止破碎更有效的方法之一。

特別是當細光面磨削到200μm或更小的時(shí)候,由3或4因素造成的破碎的可能性增加了。


主要因素及對策:

因素1:Z1-軸砂輪磨削能力不足(粗磨削)(在研磨帶有厚厚的氧化膜等的晶圓片時(shí))

對策:更換研磨功率更高的砂輪類(lèi)型(例如,選擇更大的粒度,選擇研磨功率更高的粘結劑)


因素2:砂輪與輪座之間漏水導致的磨削缺陷。

對策:檢查輪座安裝表面,如有異物,應排除。


因素3:由于砂輪排屑槽堵塞而導致的磨削缺陷。

在細磨過(guò)程中,未切割的膠帶或切割的碎片容易與砂輪接觸,從而夾在砂輪的齒間,可能導致排削槽堵塞。

對策:清除排屑槽內異物或更換砂輪。


因素4:由于在晶片邊緣拖動(dòng)晶片裂紋而造成的磨削缺陷。(在薄面磨削過(guò)程中,晶圓邊緣容易出現裂紋。在加工過(guò)程中,碎裂的碎片可能夾在砂輪和晶圓之間

對策:調整(減少)輪冷卻液的流量。



沿晶體方向碎裂

主要因素及對策

在沿晶方向發(fā)生斷裂的情況下,斷裂通常不是由砂輪引起的,主要是由于外來(lái)物質(zhì)(通常指磨屑)引起,常見(jiàn)影響因素如及對策下表所示:

序號

主要影響因素

對策

1

卡盤(pán)工作臺上有異物

清洗卡盤(pán)上表面

2

膠膜與硅片之間的異物

更換膠膜

3

轉移墊上粘有顆粒和異物

清潔轉移墊


不規則碎裂

主要因素及對策

序號

主要影響因素

對策

1

在晶圓處理過(guò)程中與外圍機器部件發(fā)生碰撞

檢查情況,調整周邊各部件的安裝位置。

2

晶圓強度不足(薄面研磨過(guò)程中)

更換報廢片重復測試設備

3

異物的引入

需仔細檢查晶圓(例如,尋找附著(zhù)在卡盤(pán)上的異物)

晶圓破碎總解析

類(lèi)型

原因

對策

沿磨痕方向碎裂(鋸狀裂紋)

Z1軸輪研磨能力不足(粗磨)(研磨厚氧化膜的晶圓等

具有較高磨削力的磨輪類(lèi)型(例如,選擇較大的磨粒,選擇具有較高磨力的結合劑)

磨輪與磨輪安裝之間漏水造成的磨削缺陷

檢查磨輪支座的安裝表面,并消除異物的積聚

在細磨過(guò)程中,排屑槽堵塞造成的磨削缺陷

清除排屑槽內異物或更換砂輪

拖動(dòng)晶片邊緣裂縫造成的研磨缺陷,在薄光潔度研磨過(guò)程中,晶片邊緣容易出現開(kāi)裂,裂紋碎片會(huì )夾在車(chē)輪和晶片之間

調整(降低)磨輪冷卻液的流量

沿晶體方向的斷裂

卡盤(pán)工作臺上存在異物

清潔工作盤(pán)的表面

膠膜與硅片之間的異物

膠膜與硅片之間的異物

傳送板上的顆粒和異物

清潔傳送板

不規則的斷裂

在晶圓處理過(guò)程中與設備外圍部件碰撞

檢查情況,調整各外圍部件的安裝位置

晶片強度不足(薄、精磨時(shí))

還有一種情況是,由于因素1和2中引入的因素惡化,需要仔細檢查晶片(例如,尋找粘在工作盤(pán)表上的異物)